半導體

晶圓雷射切割道深度檢測

返回列表

晶圓雷射切割道深度檢測

雷射切割深度量測在此製程中扮演重要角色,切割深度的精確度是決定元件品質和性能的關鍵,切割過深可能損傷元件結構,切割太淺又可能使元件無法完整分離,進而影響性能,因此雷射切割深度量測對最終產品品質與性能極為重要,但量測技術百百種,各有其優缺點,該如何選擇最適合的量測方法呢?

霖思科技股份有限公司

以彩色共軛焦量測12"晶圓切割道

量測技術包括白光干涉儀與彩色共軛焦。白光干涉儀是一種非接觸性的測量技術,使用白光源並通過干涉的原理來得到精確的切割深度,其精度可以達到奈米等級,但需花費較長的掃描時間。

彩色共軛焦則利用彩色光源的多波長特性,通過光的反射與散射來進行深度測量,其精度雖然只有次微米等級,但相對來說掃描速度更快,亦十分適合雷射切割深度的量測。以12吋晶圓來說,量測一條長度300mm的雷射切割道,大約左右1分鐘即可完成(p.s.若縮小Z軸量測範圍,最快10秒內即可達成)。 

上方左圖為高倍顯微鏡之下的雷射切割道影像,右圖為使用LMI Gocator 5504拍攝的3D影像。

實際測得深度約1.5μm